金屬材料在蝕刻機裏的浸蝕全過程,關鍵在於在金屬零件表層產生晶體的分解功效,次之在位錯上都產生分解(jiě)功(gōng)能,一(yī)般來講,位錯要以有別於晶體的分解速率產生融解功效的。
在大部分金屬(shǔ)材料和鋁合金得多分子結構中(zhōng),每個結晶幾乎(hū)都能采用分子晶格常數的所有趨向。而晶體的差(chà)異趨向、晶體密度的尺寸及殘渣都是會和四周的孕媽(mā)金屬材(cái)料產生外部經濟或超微觀原電池反應。因此,針對(duì)金屬(shǔ)材料(liào)在蝕刻液中(zhōng)而言,一方麵這種原電池反應的(de)出現,使金屬表層存在(zài)電勢差,電位差正的地區獲得暫時性的維護,電位差負的區域在腐(fǔ)蝕機裏(lǐ)被優先選擇刻蝕。另一方麵在零件表層具備轉變著分子間隔,並且分子間隔比較寬的區域融(róng)解速率快(kuài)速,一直(zhí)到表明出不平(píng)坦的表層(céng)才行(háng)。隨後,融解功效會以(yǐ)似乎是相對穩定的速率鑽削密切堆積原子(zǐ)層,表層的幾何結構也隨之晶體的分解而再次不斷轉變。位錯裏的刻蝕也將進一步危害(hài)零件表層。在位錯(cuò)上晶格常數的崎變和聚集的雜物,經常造成更為快速地刻(kè)蝕功效,進而(ér)可能會讓全部晶體遭受凹痕狀刻蝕。晶粒尺寸越低(dī),刻蝕後外表粗糙度越小,這還可以從具體(tǐ)生產過程中獲得確認。在生產過程中(zhōng)通常都是原(yuán)材料越勻稱高密度其表層越光滑。
產品工件在蝕刻機浸(jìn)蝕環節中,怎樣得到表層光滑的效果呢?根據鑫恒力研究表明,如果是要開展紋路刻蝕,就要使這類外部經濟部分刻蝕(shí)狀況(kuàng)提升。例如操縱適宜的酸值或酸堿度,並添加一些致力於更改刻蝕的行為第二化(huà)學物質(zhì),使(shǐ)被刻蝕表麵展現(xiàn)出所需的不(bú)光滑化表層(céng)實際效果。要是在腐蝕機內進行有機化學鏤空雕花,同樣需要發(fā)揮特長,提高蝕刻液的蝕刻加工水平,使刻蝕更趨向均勻化,以獲得表層光滑光潔效果(guǒ)。