全自動滾鍍(dù)生產線(xiàn)
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13933151511伴隨著PCB工業生產的發展趨勢(shì),各種各(gè)樣輸電線之特性阻抗規定也愈來愈高,這必(bì)定規定輸電線的總寬操縱更為嚴苛。為(wéi)了更好地使企業的工程項目管理者,尤(yóu)其是承擔蝕刻工藝流程的(de)加工工藝工程項目工作人員對蝕刻工藝流程有一(yī)定的掌握,故(gù)編寫此份培訓教程,以求有利於企業生產管理與監管,麵與麵提(tí)升 針對(duì)的產品(pǐn)質量。
PCB蝕刻機的基本基本原理
(1)蝕刻的目(mù)地
蝕刻的目地就是將前工藝流程所作出有圖(tú)型的pcb線(xiàn)路板上的未受維護的導電(diàn)介質一部分(fèn)銅蝕刻去,產生路線。
蝕刻有裏層蝕刻和表層蝕(shí)刻,裏層選用酸堿性蝕刻,濕膜或濕(shī)膜為抗蝕劑;表層選(xuǎn)用偏堿蝕刻,錫鉛為抗蝕劑。
(2)蝕刻反(fǎn)映基本概念(niàn)
一.酸堿性氯化銅蝕刻液
1.特點
-蝕刻速率非常容易(yì)操縱(zòng),蝕刻液在平(píng)穩情況下會做(zuò)到高的蝕刻品質
-蝕銅量大
-蝕刻液易(yì)再生和(hé)收購
2.關鍵(jiàn)反映基本原理(lǐ)
蝕刻全過程中,CU2+有還原性,將(jiāng)表麵銅氧(yǎng)化成CU+:Cu+CuCl2→2CuCl
形成的CuCl不溶解水,在過多的氯離子含量(liàng)存有下,形成(chéng)可溶(róng)的絡離(lí)子:
2CuCl+5Cl-→2[CuCl3]2-
伴隨著反映的開展,CU+愈來愈多,蝕銅工作能(néng)力降低,需對蝕刻液再造,使CU+變(biàn)為CU2+。再造的方式有下列幾類:通co2或空氣(qì)壓縮再(zài)造(化學反應速率低),氫氣再造(反映(yìng)快,但有害),電解法再(zài)造(可立即回收銅,但需電解法再造的機器設備(bèi)和較高的電磁能耗費),氫氧化鈣再造(成本(běn)增(zēng)加,自身較風險),過氧化氫再造(化學反應速率(lǜ)快,易操縱(zòng))。
河北瑞思特電子科技有限公司是專業從(cóng)事(shì)軍工、航(háng)天領域高端電(diàn)鍍設備、精密蝕刻設備,陽極氧化設備、五金蝕刻(kè)機及配套廢水處理和廢氣治理環保設備的五金蝕刻設備廠家。