每款產品都不希望產品表麵出現凹凸（tū）不平，坑坑窪窪的麵部，所（suǒ）以對於矽膠製品的表（biǎo）麵光潔度固然重要，矽膠製品主模（mó）拋光方（fāng）式（shì）主要是降低模具鋼材表麵的粗糙度，想要真正保證矽膠製品的表（biǎo）麵光潔度還是需要從模具工（gōng）藝上麵著手，那麽對於矽膠模具（jù）的表麵光（guāng）潔度工藝都有哪些處理方式呢？

　　模具拋光可分為多種工藝方式，在矽膠模具中運用不同的處理方法， 其中以下表麵處理方（fāng）法（fǎ）為常見工藝！

　　電解拋光：

　　電解拋光是靠選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分,使（shǐ）表麵光滑。與化學拋（pāo）光相比,可以消除陰極反應的（de）影響（xiǎng）,效果較好（hǎo）。電化學拋 光過程分為兩步:

　　(1)宏觀整平溶解產物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。

　　(2)微光平整陽極極化,表麵光亮度提（tí）高,Ra<1μm。

　　機（jī）械拋光：

　　機械拋光（guāng）是靠切削材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作 為主,特殊零件如（rú）回轉體表（biǎo）麵,可使用（yòng）轉台等輔助工具,表麵質（zhì）量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨 料的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋（xuán）轉運動。利用該技術可以（yǐ）達到Ra0.008μm的表（biǎo）麵粗糙度,是各種拋光方法（fǎ）中最高的。

　　超聲波拋光：

　　超（chāo）聲波拋光是（shì）利用超聲波（bō）作為動力，推動細小的（de）磨粒以極高的速度衝擊（jī）工件表麵，迫使磨料對被加工（gōng）表麵進行加工（gōng），從而降低其表（biǎo） 麵粗糙度的拋光方法。

　　流體拋光：

　　流體拋光是依靠高速流動的液（yè）體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射（shè）加工、液體噴射（shè）加工、流體 動力（lì）研磨等。流體動（dòng）力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體（tǐ）介質高速往複流過工件表麵。介質主要采（cǎi）用在較低（dī）壓力下（xià）流過性好的特（tè）殊 化合物並摻上磨料製成,磨料可采（cǎi）用碳化矽粉（fěn）末。

　　磁研磨拋光：

　　磁研磨拋光是利（lì）用磁性磨料（liào）在磁（cí）場（chǎng）作用下形成磨（mó）料刷,對工（gōng）件磨削加（jiā）工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控製（zhì）,工作條件（jiàn） 好。采用合（hé）適的磨（mó）料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

　　在矽膠製（zhì）品生（shēng）產廠家而言（yán）模具的拋光光潔度（dù）取決於產品的外觀質量程度，所以拋光工藝相同是（shì）重要的一個工序，與（yǔ）其他行（háng）業拋光工藝不同，相對而言模具拋光也是提升矽橡膠製品的加工效率與（yǔ）產品的質量等等，所以您購買的矽膠產品表麵（miàn）光潔度好不好正式取決（jué）於模具的拋光工藝做的好不好了！